Zeitschrift für Nanomedizin und biotherapeutische Entdeckung
Offener Zugang

Abstrakt

Sol-Gel-basierte Oberflächenstrukturierung

David Riassetto, Céline Ternon und Michel Langle

Die Photolithografie ist eine bekannte und häufig verwendete Technik. Allerdings wird diese Technik hauptsächlich zum Ätzen von Massenmaterial oder nativen Oxiden verwendet und erfordert normalerweise einen Ätzschritt mit einer starken Säure oder Base. Aus diesen Gründen ist die Photolithografie nicht gut mit empfindlichen Substraten wie Glas oder Kunststoff kompatibel. Basierend auf dem Sol-Gel-Verfahren haben wir verschiedene Fotolacke aus rein anorganischen Oxiden entwickelt und optimiert. Diese Fotolacke ermöglichen eine einstufige Lithografie (d. h. mit nur einem Abscheidungsschritt) von nanometerdünnen Oxidfilmen, die mit Lösungsmittel oder verdünnter Säure geätzt werden. Diese Methode ist mit der Bildung von Gittern im Millimeter- bis Submikrometerbereich auf ziemlich großen Oberflächen auf Glas- oder Kunststoffsubstraten kompatibel. Unsere Fotolacke wurden durch Integration einer lichtempfindlichen Chelatverbindung in ein „klassisches“ Sol-Gel-Oxidsol hergestellt. Diese Fotolacke können durch Spincoating auf verschiedene Substrate aufgebracht, dann durch eine Maske belichtet und selektiv gewaschen/geätzt werden. Einerseits wurde TiO2-Fotolack für die Funktionalisierung von Oberflächen mit räumlichem Benetzbarkeitskontrast untersucht. Andererseits wurde ZnO-Fotolack für das lokalisierte Wachstum von ZnO-Nanodrähten untersucht. Das Syntheseprinzip wird auf der Konferenz vorgestellt. Die physikochemischen und morphologischen Eigenschaften der erhaltenen Oberflächen in Verbindung mit den Prozessparametern werden präsentiert. Darüber hinaus werden mögliche Anwendungen gezeigt.